萃取設(shè)備中國可以加入外界能量
隨著溶劑萃取工藝的迅速發(fā)展，出現(xiàn)了許多類型的設(shè)備。不論那種類型的設(shè)備，都是從保證有效傳遞的角度考慮的。在萃取過程中，兩相之間金屬的傳遞速率是受下式支配的.由(3-1)式知，傳遞速率與傳遞系數(shù)、兩相濃度差及兩相界面積有關(guān)，要想提高傳遞速率，縮小萃取設(shè)備的尺寸，必須使以上3個因素具有最有利狀態(tài)的最大值。
當(dāng)一相成細滴狀態(tài)不斷地分散到另一相時，便可得到大的界面積。質(zhì)量傳遞系數(shù)的大小取決于兩相間的傳質(zhì)方式。從擴散機理看，擴散有分子擴散和渦流擴散，前者速度很慢，而后者是快速傳遞的前提，當(dāng)加入外界能量，保證液相間有湍動面時，便可以連續(xù)地進行渦流擴散，提高傳遞速率。濃度差A(yù)C(或濃差作用力)與界面湍動程度有關(guān)，當(dāng)兩相進行無回流的、理想逆流流動時，濃度差A(yù)C在界面間達到最大，如果有軸向混合，即停留時間不均勻時，則使傳遞效率降低。
根據(jù)以上所述，在實踐中一方面可以采用重力法分散兩相，另外一方面可以在萃取設(shè)備內(nèi)加入外界能量——噴霧、攪拌或脈沖等方式提高傳遞速率。顯然，破碎機希望質(zhì)量傳遞速率應(yīng)盡可能大，而萃取設(shè)備應(yīng)盡可能小。當(dāng)然在保證高傳遞速率下，當(dāng)實際產(chǎn)量增大時，設(shè)備就需要相應(yīng)地增大。
在萃取設(shè)備中，按兩相接觸方式，可分為兩大類：磨粉機連續(xù)接觸式(也稱為微分接觸式)和間斷接觸式(也稱為階段接觸式)，前者相組成連續(xù)地或接近于連續(xù)地改變，后者具有一定數(shù)目的分離段，每一段料液混合之后進行分離。